沈阳师范大学学报(自然科学版)

2007, No.78(04) 503-505

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水质对UV/H_2O_2降解LAS的影响及机理
Effect and Mechanism of Water Quality on Degradation of LAS by UV/H_2O_2 Combination Process

潘晶;于龙;张阳;王艳;

摘要(Abstract):

研究了UV/H2O2工艺对LAS的去除效果以及水的pH、浊度对LAS降解的影响和机理.结果表明:UV/H2O2工艺可以有效的去除水中LAS,光降解过程符合一级反应动力学模型;在H2O2投加量为8 mg.L-1,14 W低压汞灯照射下,LAS在蒸馏水中光降解速率常数为0.018 1 min-1;在酸性条件下,有利于LAS光降解;浊度大于6NTU时,光降解速率常数迅速下降.

关键词(KeyWords): 水质;UV/H2O2;LAS;光降解

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 沈阳师范大学实验中心主任基金项目;; 沈阳师范大学环境科学系资助项目

作者(Author): 潘晶;于龙;张阳;王艳;

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